IT之家 5 月 29 日消息，科技媒體 patentlyapple 昨日（5 月 28 日）發布博文，報道稱蘋果公司獲批一項新專利，涉及下一代 Face ID 技術，從衍射光學元件（DOE）轉向更先進的“超表面光學元件”（MOE）。

IT之家援引博文介紹，蘋果公司現有 Face ID 依賴衍射光學元件（DOE），生成點狀照明圖案，用于目標區域的 3D 映射。

傳統結構光投影模組（Structured light projectors）通常需要多個光學元件，包括 DOE 和準直透鏡，來分割光束并投射點狀圖案。盡管這類投影模組已足夠小巧，可嵌入智能手機，但仍有進一步縮小的需求。

而專利中提出了超表面光學元件（MOE）設計方案，在單一扁平元件中，集成光束分割與準直功能，不僅能縮小投影模組體積，降低了生產成本，還簡化了組裝流程，減少了制造誤差的影響。

新專利還揭示，MOE 技術能同時調整投影模組的光軸傾斜角度，使其與攝像頭的視野（FOV）更好地重疊。這種設計確保點狀圖案覆蓋攝像頭視野，提升 3D 映射的精準度。此外，設備可通過控制器交替激活點狀照明和泛光照明，靈活適應不同場景需求。