IT之家 5 月 29 日消息,科技媒體 patentlyapple 昨日(5 月 28 日)發(fā)布博文,報(bào)道稱蘋果公司獲批一項(xiàng)新專利,涉及下一代 Face ID 技術(shù),從衍射光學(xué)元件(DOE)轉(zhuǎn)向更先進(jìn)的“超表面光學(xué)元件”(MOE)。

IT之家援引博文介紹,蘋果公司現(xiàn)有 Face ID 依賴衍射光學(xué)元件(DOE),生成點(diǎn)狀照明圖案,用于目標(biāo)區(qū)域的 3D 映射。

傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)光投影模組(Structured light projectors)通常需要多個(gè)光學(xué)元件,包括 DOE 和準(zhǔn)直透鏡,來分割光束并投射點(diǎn)狀圖案。盡管這類投影模組已足夠小巧,可嵌入智能手機(jī),但仍有進(jìn)一步縮小的需求。

而專利中提出了超表面光學(xué)元件(MOE)設(shè)計(jì)方案,在單一扁平元件中,集成光束分割與準(zhǔn)直功能,不僅能縮小投影模組體積,降低了生產(chǎn)成本,還簡化了組裝流程,減少了制造誤差的影響。

新專利還揭示,MOE 技術(shù)能同時(shí)調(diào)整投影模組的光軸傾斜角度,使其與攝像頭的視野(FOV)更好地重疊。這種設(shè)計(jì)確保點(diǎn)狀圖案覆蓋攝像頭視野,提升 3D 映射的精準(zhǔn)度。此外,設(shè)備可通過控制器交替激活點(diǎn)狀照明和泛光照明,靈活適應(yīng)不同場景需求。

標(biāo)題:蘋果新專利革新Face ID:元件體積更小、成本更低、精度更高

地址:http://www.sme-os.com/reshuiqi/271311.html